| 发明名称 |
静电卡盘与制造其之方法 |
| 摘要 |
一种静电卡盘与制造其之方法。静电卡盘包括一基体、一第一绝缘层、一电极层以及一介电层。第一绝缘层设置于基体上且第一绝缘层具有非晶形结构。电极层设置于第一绝缘层上且电极层产生一静电力。介电层位于电极层上。 |
| 申请公布号 |
TWI459500 |
申请公布日期 |
2014.11.01 |
| 申请号 |
TW099127625 |
申请日期 |
2010.08.18 |
| 申请人 |
高美科股份有限公司 南韩 |
发明人 |
成珍一;芮庚焕;吴致源;柳忠烈 |
| 分类号 |
H01L21/683 |
主分类号 |
H01L21/683 |
| 代理机构 |
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代理人 |
祁明辉 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2;林素华 台北市信义区忠孝东路5段510号22楼之2 |
| 主权项 |
一种静电卡盘，包括：一基体；一绝缘层，设置于该基体上，且该绝缘层具有非晶形结构；一电极层，设置于该绝缘层上，且该电极层产生一静电力；以及一介电层，位于该电极层上，其中该介电层包括：一第一介电层，覆盖该电极层，且该第一介电层具有非晶形结构；以及一第二介电层，位于该第一介电层上，且该第二介电层具有结晶结构。 |
| 地址 |
南韩 |
