| 发明名称 | Al合金膜、具有Al合金膜的配线结构以及Al合金膜的制造中使用的溅射靶 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种技术，在薄膜晶体管基板、反射膜、反射阳极电极、触摸屏传感器等的制造工序中，能够有效防止氯化钠溶液的浸渍下的Al合金表面的腐蚀和针孔腐蚀(黑点)等的腐蚀，耐腐蚀性优异，而且能够防止小丘的生成且耐热性也优异的Al合金膜。本发明的Al合金膜，是用于配线膜或反射膜的Al合金膜，其中，含有Ta和/或Ti：0.01～0.5原子％、稀土类元素：0.05～2.0原子％。 | ||
| 申请公布号 | CN103069042A | 申请公布日期 | 2013.04.24 |
| 申请号 | CN201180041104.1 | 申请日期 | 2011.09.26 |
| 申请人 | 株式会社神户制钢所 | 发明人 | 奥野博行;钉宫敏洋 |
| 分类号 | C23C14/14(2006.01)I;C22C21/00(2006.01)I;G02F1/1368(2006.01)I;G09F9/30(2006.01)I;H01B1/02(2006.01)I;H01B5/02(2006.01)I;H01L21/28(2006.01)I;H01L21/285(2006.01)I;H01L21/3205(2006.01)I;H01L23/52(2006.01)I;H01L29/786(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 龚敏 |
| 主权项 | 一种Al合金膜，其特征在于，是用于配线膜或反射膜的Al合金膜，其中，含有Ta和/或Ti：0.01～0.5原子％和稀土类元素：0.05～2.0原子％。 | ||
| 地址 | 日本兵库县 | ||