半导体装置及其制造方法

摘要

在一于一具有一柱图案之基板上制造一半导体装置之方法中，在该柱图案上形成一闸电极而不蚀刻该柱图案。在邻近柱图案之间填充一导电图案，在该导电图案之上且围绕每一柱图案之侧壁形成一隔片，且藉由使用该隔片作为一蚀刻障壁来蚀刻该导电图案而形成该闸电极。