发明名称 光学膜及其制造方法、防眩膜、具有光学层的偏光片以及显示装置
摘要 本发明提供一种防眩膜,包括:基材;以及形成在基材上的光学层,并且在光学层的表面上具有凹凸形状。该凹凸形状通过以下过程来获得:涂布含有微粒和树脂的涂覆材料,利用涂覆材料中出现的对流将微粒在一些部分密集地分布并在其它部分稀疏地分布,然后固化涂覆材料;树脂包含以重量计3%以上20%以下的聚合物;微粒的平均粒径为2μm以上8μm以下;而光学层的平均膜厚为8μm以上18μm以下。
申请公布号 CN101815958B 申请公布日期 2012.11.21
申请号 CN200980100123.X 申请日期 2009.06.03
申请人 索尼公司 发明人 芳贺友美;长浜勉;松村伸一
分类号 G02B5/02(2006.01)I;B32B3/30(2006.01)I;B32B7/02(2006.01)I;B32B27/18(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;G02F1/1335(2006.01)I 主分类号 G02B5/02(2006.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 吴孟秋;梁韬
主权项 一种光学膜,包括:基材;以及光学层,设置在所述基材上;其中所述光学层在其表面上具有凹凸形状;所述凹凸形状通过以下过程来获得:将含有微粒和树脂的涂覆材料涂布到所述基材上,利用所述涂覆材料中出现的对流将所述微粒在一些部分密集地分布而在其它部分稀疏地分布,并固化所述涂覆材料;所述树脂包含以重量计3%以上20%以下的聚合物;所述微粒的平均粒径为2.4μm以上8μm以下;并且所述光学层的平均膜厚为6.4μm以上18μm以下,所述光学层的表面的粗糙度轮廓的算术平均粗糙度Ra为0.03μm以上0.15μm以下,并且其均方根斜率RΔq为0.01以上0.03以下。
地址 日本东京