| 主权项 |
一种导体电爆炸等离子体基低能金属离子注入装置，它主要包括由带有进气口(16)的圆盘状上盖(2)、圆柱形炉体(3)、置有抽气口(11)的底座(8)和通过密封圈(7)构成的金属真空室(1)，并与被处理金属管件(5)相连的低能离子注入电源(14)和真空系统，其特征在于：它还包括以置于被处理金属管件(5)内的导体丝(13)为源材料的导体丝电爆炸金属等离子体源和被处理金属管件(5)外部同轴设置的辅助加热源(6)；所述导体丝电爆炸金属等离子体源是由设置在金属真空室(1)内金属管件(5)上端口处的电爆炸阴极(17)、设置在金属真空室(1)底座(8)中心轴向的电爆炸阳极(12)、送丝机构(20)向两电极之间输送的导体丝(13)和设置在真空室外部的导体丝电爆炸等离子体源电源(15)构成，通过导体丝电爆炸等离子体源电源(15)向导体丝(13)快速脉冲放电，在金属管件(5)内腔中心轴线上发生导体丝电爆炸，产生沿金属管件内腔周向和轴向均匀分布、由中心轴线向内壁高速扩展的柱状高温、高密度金属等离子体区；还通过低能离子注入电源(14)施加的直流脉冲负偏压加速金属离子，结合同轴设置的辅助加热源(6)的同步加热作用，在金属管件(5)内壁表面完成等离子体基低能金属离子注入；所述被处理金属管件(5)外部，同轴设置的辅助加热源(6)将被处理金属管件(5)周向和轴向均匀加热至700～900℃；所述辅助加热源(6)为沿金属管件外壁呈螺旋分布的电阻丝，与金属真空室(1)之间设有绝热套筒(4)。 |
