| 发明名称 | 拒水性膜、具有拒水性和亲水性的区域的图案化膜、及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及具有表面微细结构(凹凸结构)的由聚合物形成的超拒水性膜的制造方法、尤其是利用了通过能量射线照射进行的聚合反应所引起的聚合物的相分离现象的超拒水性膜的制造方法、以及通过该制造方法形成的超拒水性膜。通过以下的超拒水性膜的制造方法来完成上述课题，所述制造方法具有以下工序：制造膜形成用组合物(X)的工序，所述膜形成用组合物(X)是将能通过照射能量射线而聚合的聚合性化合物(A)和与该聚合性化合物(A)的聚合物不相容的化合物(B)混合而成的；形成该膜形成用组合物(X)的层，使聚合性化合物(A)聚合后除去化合物(B)的工序；其中，前述化合物(B)是呈液体状或固体状、分子量为500以下、并且在25℃下的饱和蒸汽压为400Pa以下的化合物。 | ||
| 申请公布号 | CN102448622A | 申请公布日期 | 2012.05.09 |
| 申请号 | CN201080023305.4 | 申请日期 | 2010.05.24 |
| 申请人 | DIC株式会社;一般财团法人川村理化学研究所 | 发明人 | 加藤慎治 |
| 分类号 | B05D5/06(2006.01)I;C08F2/00(2006.01)I;C08F2/44(2006.01)I;C08F291/00(2006.01)I;C08J7/04(2006.01)I;C08J9/28(2006.01)I;C09D4/00(2006.01)I;C09D5/00(2006.01)I;C09D7/12(2006.01)I;C09D125/08(2006.01)I;C09D133/00(2006.01)I;C09D201/00(2006.01)I | 主分类号 | B05D5/06(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种拒水性膜的制造方法，其特征在于，具有以下工序：制造膜形成用组合物(X)的工序，所述膜形成用组合物(X)是将能通过照射能量射线而聚合的聚合性化合物(A)和与该聚合性化合物(A)相容但与该聚合性化合物(A)的聚合物(PA)不相容、并且对能量射线为非活性的化合物(B)混合而成的；形成该膜形成用组合物(X)的层的工序；通过照射能量射线使该膜形成用组合物(X)中的聚合性化合物(A)聚合后除去化合物(B)的工序；其中，所述化合物(B)是呈液体状或固体状、分子量为500以下、并且在25℃下的饱和蒸汽压为400Pa以下的化合物。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||