| 发明名称 | 载置台的表面处理方法 | ||
| 摘要 | 一种载置台的表面处理方法，使安装表面能够与将形成的基片相符合，节省了时间和精力。将基片安装在载置台的安装表面上，该载置台位于基片处理设备的容纳室里，在该容纳室中对基片进行等离子体处理。所安装的基片受热膨胀。 | ||
| 申请公布号 | CN101276775B | 申请公布日期 | 2012.04.25 |
| 申请号 | CN200810086917.2 | 申请日期 | 2008.03.28 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 青砥雅;菊池英一郎;樋熊政一;樋口公博 |
| 分类号 | H01L21/683(2006.01)I;C23C16/458(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23F4/00(2006.01)I;H01J37/32(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/683(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 载置台的表面处理方法，该载置台设置在对基片进行等离子体处理的基片处理设备的容纳室中，且具有安装所述基片的安装表面，所述载置台的表面处理方法包括：使所安装的基片热膨胀以使安装表面平滑化的膨胀步骤，所述膨胀步骤重复地进行，每次重复所述膨胀步骤时，都更换所安装的基片。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||