一种解决高磷浓度PSG薄膜表面雾状颗粒的工艺方法

摘要

本发明一种解决高磷浓度PSG薄膜表面雾状颗粒的工艺方法，其中，主要包括以下步骤：在反应腔室内的等离子体环境中通入氧气，使所述等离子体与氧气混合，利用等离子体的能量，使得氧气与PSG薄膜中的不稳定的磷原子发生反应，形成位于PSG薄膜表面的一层钝化膜，以防止PSG薄膜中磷与空气中的氢、氧反应。发明一种解决高磷浓度PSG薄膜表面雾状颗粒的工艺方法，有效的使在反应腔室中通入氧气使高密度等离子体与氧气混合，达到磷硅玻璃4的表面形成钝化膜，阻断水气与硼、磷接触造成结晶。

主权项

一种解决高磷浓度PSG薄膜表面雾状颗粒的工艺方法，其特征在于，主要包括以下步骤：  在反应腔室内的等离子体环境中通入氧气，使所述等离子体与氧气混合，利用等离子体的能量，使得氧气与PSG薄膜中的不稳定的磷原子发生反应，形成位于PSG薄膜表面的一层钝化膜，以防止PSG薄膜中磷与空气中的氢、氧发生反应。