器件制造方法、光刻设备

摘要

本发明涉及一种器件制造方法，包括用由安装在可位移的掩模版台上的掩模版形成的图案化辐射束曝光衬底，其中所述方法包括步骤：确定用于相对于所述掩模版台逼近掩模版表面的高度和倾斜形状的非线性函数；在衬底曝光过程中，根据非线性函数控制所述掩模版台的位移。本发明还涉及一种光刻设备和计算机程序。

主权项

一种器件制造方法，包括用由安装在可位移的掩模版台上的具有图案化掩模版表面的掩模版形成的图案化辐射束曝光衬底，其中，所述方法包括步骤：‑确定用于相对于所述掩模版台逼近所述掩模版表面的高度和倾斜形状的非线性函数；‑在所述衬底曝光过程中根据所述非线性函数控制所述掩模版台的位移，其中，为了确定所述非线性函数而采取下面步骤：‑在第一格子上确定与所述掩模版的高度和倾斜数据相对应的第一数据集；‑在第二格子上确定与多个掩模版台设定点相对应的第二数据集；‑用非线性函数拟合一系列的设定点。