| 摘要 |
<p>본 발명은 MTM 포토 마스크 및 이를 제조하는 방법에 관한 것으로, 디스플레이 패널 제조 또는 반도체 제조에 필요한 멀티 트랜스미션 모듈레이션(Multi Transmission Modulation; 이하 MTM) 마스크 제조 시, 노광 마스크 패턴이 형성되는 영역은 차광층, 반사방지층 및 반투과층 중 선택되는 하나 이상의 층을 포함하고, 정렬 마크 패턴이 형성되는 영역은 차광층 단독 구조 또는 반투과층/차광층의 순차적 적층 구조를 포함하는 구조인 정렬 마크에 반사 방지막(Anti Reflection Layer)을 사용하지 않는 마스크 구조를 제공함으로써, 마스크 제조를 위한 노광 공정에서 정렬도를 향상시키고, 마스크 생산성을 향상시킬 수 있도록 하는 발명에 관한 것이다.</p> |
