| 发明名称 | 光刻投射装置 | ||
| 摘要 | 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；用于至少部分地将所述投射系统末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统。其中所述液体供给系统还包括在所述液体供给系统中液体的顶面上，用于抑制波动产生的抑制装置并且包括压力释放装置。 | ||
| 申请公布号 | CN101382738B | 申请公布日期 | 2011.01.12 |
| 申请号 | CN200810168966.0 | 申请日期 | 2003.11.11 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | J·洛夫;A·T·A·M·德克森;C·A·胡根达姆;A·科勒斯伊辰科;E·R·鲁普斯特拉;T·M·默德曼;J·C·H·穆肯斯;R·A·S·里特塞马;K·西蒙;J·T·德斯米特;A·斯特拉艾杰;B·斯特里夫克;H·范桑坦 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王波波 |
| 主权项 | 一种光刻投射装置，包括：用于提供辐射投射光束的辐射系统；用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据理想的图案对投射光束进行构图；用于保持基底的基底台；用于将带图案的光束投射到基底的靶部上的投射系统；用于至少部分地将所述投射系统末端元件和所述基底之间的间隙填充液体的液体供给系统，其特征在于所述液体供给系统还包括在所述液体供给系统中液体的顶面上，用于抑制波动产生的抑制装置，并且所述抑制装置包括压力释放装置。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||