发明名称 电路板的电镀铜塞孔工艺
摘要 本发明公开了一种电路板的电镀铜塞孔工艺,它包括有如下步骤:制作基板内层线路:在覆有铜层的板料上布置内层线路,再将多块板叠层并压合,再在多层板上钻设通孔;沉铜板面电镀:将多层板放置到沉铜药水中进行电镀,使孔壁和多层板外表面镀上一导电薄铜层;专用镀孔图形转移,即是将照相底版图形转移到多层板上;电镀铜通孔:将多层板进行电镀,使镀铜将通孔塞满;减铜蚀刻,由于通孔镀上铜后并凸出板面一部分,将使凸出板面的铜去除掉;布置外层线路,将多层板进行外层线路的布置;图形电镀、再进行图形电镀;退膜蚀刻,完成后将干膜去掉并进行蚀刻;在裸铜板上印刷绿油及文字符号,并进行烘烤成品板。
申请公布号 CN101873770A 申请公布日期 2010.10.27
申请号 CN200910039006.9 申请日期 2009.04.21
申请人 中山市兴达电路板有限公司 发明人 英浩兴;何锋
分类号 H05K3/42(2006.01)I 主分类号 H05K3/42(2006.01)I
代理机构 中山市科创专利代理有限公司 44211 代理人 尹文涛
主权项 电路板的电镀铜塞孔工艺,其特征在于包括有如下步骤:A、制作基板内层线路:将覆有铜层的板料用裁板机加工成所需要的尺寸,在切开的板的表面上布置内层线路,使电路板的线路连接符合设计的需要,之后再将布有内层线路的多块板进行叠层并压合,使两块板以上的内层板紧密粘合在一起形成有内层线路的多层板,之后在多层板上钻设用于连接电子元件的通孔;B、沉铜板面电镀:将钻有通孔的多层板放置到沉铜药水中进行化学沉铜,使通孔的孔壁和多层板外表面镀上一导电薄铜层,使内层线路通过导电层可以导通到外表面的薄铜层;C、专用镀孔图形转移:即是将照相底版图形转移到多层板上,先将多层板进行磨板,除去铜表面上的油脂、灰尘和颗粒残留与氧化物,提高感光胶与多层板面铜层的结合力,再根据通孔孔径的大小按1∶1的比例用光绘机进行绘制菲林,使需要电镀的通孔处于开窗位置,其于部分全部用干膜覆盖,之后再进行对位曝光和显影;D、电镀铜通孔:将完成图形转移的多层板放置到电镀药水中再进行电镀,使处于开窗位置的通孔再镀上铜,使镀铜将通孔塞满;E、减铜蚀刻:由于通孔再将镀上铜后,在通孔上方的铜会出凸出板面一部分,这时需要将通孔塞满后的多层板进行减铜蚀刻,使凸出板面一部分的铜去除掉;F、布置外层线路:经过减铜蚀刻的多层板进行外层线路的布置,将各个通孔之间需要连接起来的地方连接起来;G、图形电镀:最后再进行图形电镀,使线路铜层及孔铜加厚;H、退膜蚀刻:完成后将干膜去掉并进行蚀刻,将需要的线路保留下来;G、在裸铜板上印刷绿油及文字符号,并进行烘烤后加工成型为客户需要的成品板。
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