发明名称 | 具有用于改善载流子迁移率和成像器中蓝光响应的应变硅层的像素 | ||
摘要 | 一种成像器,包含具有关联应变硅层的像素单元。该应变硅层提高了电荷转移效率,降低图像滞后,并改善了成像装置中的蓝光响应。 | ||
申请公布号 | CN100524785C | 申请公布日期 | 2009.08.05 |
申请号 | CN200480025685.X | 申请日期 | 2004.06.28 |
申请人 | 微米技术有限公司 | 发明人 | C·穆利 |
分类号 | H01L27/146(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/146(2006.01)I |
代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 张雪梅;梁 永 |
主权项 | 1. 至少一个像素单元,包含:半导体衬底,在其顶部包含应变硅层,该应变硅层包含:锗硅基底层;以及在该锗硅基底层上的硅层;以及光电传感器,形成在所述半导体衬底的上部区域内,用于产生电荷。 | ||
地址 | 美国爱达荷州 |