ULSI多层铜布线化学机械抛光中平整度的控制方法

摘要

本发明涉及一种ULSI多层铜布线化学机械抛光中平整度的控制方法，其特征是：在碱性条件下选取高浓度的SiO₂水溶胶为磨料，用不同倍数的去离子水稀释，同时加入金属离子螯合剂、非离子表面活性剂，在抛光进行前加入氧化剂；具体实施步骤如下：首先配制抛光液：a.将粒径15nm-20nm的SiO₂磨料用1-3倍的去离子水稀释；b.加入金属离子螯合剂，调整上述溶液使pH值在10-13范围内；c.边搅拌边加入1％-10％体积分数的醚醇类活性剂；d.在抛光前，边搅拌边加入1％-3％体积分数的过氧化物氧化剂，如H₂O₂，制成抛光液；然后在流量为1L/min-5L/min、温度为20℃-30℃、转速为60rpm-120rpm、压力为100g/cm²-250g/cm²的工艺条件下进行抛光。本发明工艺简单、效果显著。

主权项

1. 一种ULSI多层铜布线化学机械抛光中平整度的控制方法，包括步骤如下：首先配制用于降低ULSI多层铜布线塌边控制平整度的抛光液：a. 将粒径15nm-20nm的SiO2磨料用1-3倍的去离子水稀释；b. 加入金属离子螯合剂，调整上述溶液使pH值在10-13范围内；c. 边搅拌边加入1％-10％体积分数的醚醇类活性剂；d. 在抛光进行前，边搅拌边加入1％-3％体积分数的过氧化物氧化剂；然后在流量为1L/min-5L/min、温度为20℃-30℃、转速为60rpm-120rpm、压力为100g/cm2-250g/cm2的工艺条件下进行抛光。