发明名称 金和镍掺杂单晶硅片式负温度系数热敏电阻及其制备方法
摘要 本发明涉及金和镍掺杂单晶硅片式热敏电阻,该热敏电阻采用涂源高温扩散方法,将过渡金属元素金和镍作为掺杂剂,掺入n型单晶硅中,利用金和镍在n型单晶硅中的电补偿性质,制备出负温度系数热敏材料,然后在精密划片机上划片,芯片两端制作电极,其电极采用镍、银两层结构,实现了硅晶体和电极之间的欧姆接触。所用硅热敏功能材料以单晶硅半导体为基础,掺杂金和镍金属原子,形成深能级俘获中心,使材料产生热敏特性,经过严格控制掺杂原子在硅中的浓度及其分布,易于实现用氧化物陶瓷热敏材料难以实现的高B值低阻值元件,并提高热敏材料和元件的一致性、重复性、稳定性。
申请公布号 CN101399106A 申请公布日期 2009.04.01
申请号 CN200810072972.6 申请日期 2008.10.15
申请人 中国科学院新疆理化技术研究所 发明人 陈朝阳;范艳伟;董茂进;丛秀云;陶明德;王军华
分类号 H01C7/04(2006.01)I;H01C17/00(2006.01)I 主分类号 H01C7/04(2006.01)I
代理机构 乌鲁木齐中科新兴专利事务所 代理人 张 莉
主权项 1、一种金和镍掺杂单晶硅片式负温度系数热敏电阻,其特征在于该热敏电阻是用金和镍的金属盐作为扩散源,掺入n型单晶硅中,利用深能级杂质在硅中形成的补偿特性制成单晶硅热敏材料,再通过表面化学镀镍电极、划片和沾银制成单晶硅片式负温度系数热敏电阻器。
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