发明名称 开口的形成方法及图案化方法
摘要 一种开口的形成方法,首先提供基底。接着,于基底上形成垫层。然后,于垫层上形成掺杂矽玻璃层。接下来,于掺杂矽玻璃层上形成硼矽玻璃层。之后,于硼矽玻璃层上形成图案化罩幕层。继之,以图案化罩幕层作为罩幕,移除部份硼矽玻璃层、部份掺杂矽玻璃层与部分垫层。随后,移除图案化罩幕层。再者,以硼矽玻璃层作为罩幕,移除部份基底。接着,使用氢氟酸蒸气移除硼矽玻璃层与掺杂矽玻璃层。
申请公布号 TW200845301 申请公布日期 2008.11.16
申请号 TW096115832 申请日期 2007.05.04
申请人 南亚科技股份有限公司 发明人 吴昌荣;陈逸男;林峰全
分类号 H01L21/8242(2006.01);H01L21/306(2006.01) 主分类号 H01L21/8242(2006.01)
代理机构 代理人 詹铭文;萧锡清
主权项
地址 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号