发明名称 | 开口的形成方法及图案化方法 | ||
摘要 | 一种开口的形成方法,首先提供基底。接着,于基底上形成垫层。然后,于垫层上形成掺杂矽玻璃层。接下来,于掺杂矽玻璃层上形成硼矽玻璃层。之后,于硼矽玻璃层上形成图案化罩幕层。继之,以图案化罩幕层作为罩幕,移除部份硼矽玻璃层、部份掺杂矽玻璃层与部分垫层。随后,移除图案化罩幕层。再者,以硼矽玻璃层作为罩幕,移除部份基底。接着,使用氢氟酸蒸气移除硼矽玻璃层与掺杂矽玻璃层。 | ||
申请公布号 | TW200845301 | 申请公布日期 | 2008.11.16 |
申请号 | TW096115832 | 申请日期 | 2007.05.04 |
申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 吴昌荣;陈逸男;林峰全 |
分类号 | H01L21/8242(2006.01);H01L21/306(2006.01) | 主分类号 | H01L21/8242(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 詹铭文;萧锡清 | |
主权项 | |||
地址 | 桃园县龟山乡华亚科技园区复兴三路669号 |