| 发明名称 | 掩模的布图方法 | ||
| 摘要 | 一种掩模的布图方法，包括为一层建立虚设图案抑制区域和单一类型的虚设图案。形成其中形成有第一主图案的单元。在主芯片布图中形成第二主图案，并且将该单元插入该主芯片中。基于第一主图案和第二主图案，建立虚设图案抑制区域。然后，在整个主芯片布图上形成单一类型的虚设图案。移除与虚设图案抑制区域相交的虚设图案。本发明的掩模布图方法能够简化设计、减少设计过程的数据负担以及提高半导体制造工艺的速度和精确性。 | ||
| 申请公布号 | CN101299129A | 申请公布日期 | 2008.11.05 |
| 申请号 | CN200710185129.4 | 申请日期 | 2007.10.30 |
| 申请人 | 东部高科股份有限公司 | 发明人 | 李相熙;曹甲焕 |
| 分类号 | G03F1/14(2006.01);G03F1/00(2006.01) | 主分类号 | G03F1/14(2006.01) |
| 代理机构 | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人 | 郑小军 |
| 主权项 | 1、一种掩模的布图方法，包括以下步骤：形成包括第一主图案的单元；在主芯片布图中形成第二主图案；将所述单元插入所述主芯片布图中；基于所述第一主图案和所述第二主图案，形成虚设图案抑制区域；在插入有所述单元的整个主芯片布图上，形成单一类型的虚设图案；以及移除与所述虚设图案抑制区域重叠的虚设图案。 | ||
| 地址 | 韩国首尔 | ||