发明名称 静电卡盘
摘要 在此公开一种静电卡盘,具有在其表面处形成的冷却通道。静电卡盘包括:卡盘座,用于支撑晶片;安装在卡盘座上的电介质膜,其具有电极,用于供给直流电压以提供固定晶片所必需的静电力,所述电极设置在电介质膜中;以及冷却通道,用于向电介质膜提供制冷剂以控制晶片的温度。所述冷却通道包括至少两个第一冷却通道部分,形成在对应于晶片边缘部分的电介质膜的表面处使得第一冷却通道部分形成同心圆,第二冷却通道部分形成在电介质膜的表面处使得第一冷却通道部分通过第二冷却通道部分彼此连接,第一贯穿通道,贯通电介质膜而形成,用于将制冷剂提供到第一和第二冷却通道部分,以及第二贯穿通道,贯通电介质膜的中心而形成,用于将制冷剂提供到晶片的中心。
申请公布号 CN100426485C 申请公布日期 2008.10.15
申请号 CN200480038585.0 申请日期 2004.12.22
申请人 自适应等离子体技术公司 发明人 朴熙龙;金珍泰;李圭夏;朴宽泰;吴尚瑛;张辉坤
分类号 H01L21/68(2006.01);H01L21/3065(2006.01) 主分类号 H01L21/68(2006.01)
代理机构 北京集佳知识产权代理有限公司 代理人 杨生平;杨红梅
主权项 1.一种静电卡盘,包括:卡盘座,用于支撑晶片;电介质膜,安装在所述卡盘座上,所述电介质膜具有电极,用于提供直流电压以提供固定所述晶片所必需的静电力,所述电极设置在所述电介质膜中;以及冷却通道,用于向所述电介质膜提供制冷剂以控制所述晶片的温度,所述冷却通道包括:至少两个第一冷却通道部分,形成在对应于所述晶片的边缘部分的所述电介质膜的表面处,使得所述第一冷却通道部分形成同心圆;第二冷却通道部分,形成在所述电介质膜的表面处使得所述第一冷却通道部分通过所述第二冷却通道部分彼此连接;第一贯穿通道,穿过所述电介质膜而形成,用于将所述制冷剂提供到所述第一和第二冷却通道部分;以及第二贯穿通道,穿过所述电介质膜的中心而形成,用于将所述制冷剂提供到所述晶片的中心。
地址 韩国京畿道利川市