| 发明名称 | 一种气体温度可控的等离子体刻蚀装置 | ||
| 摘要 | 本发明涉及等离子体刻蚀装置，本发明提出的等离子体刻蚀装置包括反应腔体和具有进气管的石英盖，其中所述进气管具有加热装置，用于对进气管内的气体进行温度可控的加热。本发明的等离子体刻蚀装置的优点和积极效果在于：由于所述石英盖的进气管具有加热装置，该加热装置可以通过控制气体温度来改变气体分子的运动速度，使得气体在反应腔室内的分布更均匀，进而提高等离子刻蚀的均匀程度。 | ||
| 申请公布号 | CN100394542C | 申请公布日期 | 2008.06.11 |
| 申请号 | CN200510126272.7 | 申请日期 | 2005.12.02 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 王铮 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/3065(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人 | 练光东 |
| 主权项 | 1.一种等离子体刻蚀装置，包括反应腔体(3)和石英盖(4)，石英盖(4)上设有进气管(5)，其特征在于所述进气管(5)附有加热装置(7)，用于对进气管内的气体进行温度可控加热。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号 | ||