发明名称 低涡流真空容器及其制造方法
摘要 本发明涉及低涡流真空容器及其制造方法。一种真空容器组件(70)包括由在内部基本不产生涡流的材料形成的内圆筒(74)和外圆筒(72)。该内圆筒(74)包括第一半部(78)和第二半部(80),在这两个半部上具有环形凸缘(76)。多个金属接口(82,84,86)连接到内圆筒(74)和外圆筒(72)。该多个金属接口(82,84,86)使内圆筒(74)的第一半部(78)和第二半部(80)结合,并且使内圆筒(74)和外圆筒(72)结合。
申请公布号 CN101191827A 申请公布日期 2008.06.04
申请号 CN200710196074.7 申请日期 2007.11.30
申请人 通用电气公司 发明人 X·黄;P·S·汤普逊
分类号 G01R33/20(2006.01);G01R33/28(2006.01);G01R33/42(2006.01);G01R33/421(2006.01);G01R33/422(2006.01) 主分类号 G01R33/20(2006.01)
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 张雪梅;王小衡
主权项 1.一种磁共振成像(MRI)系统(10),包括:用于产生磁场的至少一个磁体(54);至少一个梯度线圈(50),用于借助梯度场操纵由所述至少一个磁体(54)产生的磁场;和遮蔽该至少一个磁体(54)的真空容器(70),其中该真空容器(70)进一步包括:非金属材料制成的内圆筒(74),在该至少一个梯度线圈(50)运行期间在该非金属材料中涡流显著减少,其中该内圆筒(74)包括形成有环形凸缘(76)的第一半部(78)和第二半部(80);和非金属材料制成的外圆筒(72),在该至少一个梯度线圈(50)运行期间在该非金属材料中涡流显著减少。
地址 美国纽约州