发明名称 |
低涡流真空容器及其制造方法 |
摘要 |
本发明涉及低涡流真空容器及其制造方法。一种真空容器组件(70)包括由在内部基本不产生涡流的材料形成的内圆筒(74)和外圆筒(72)。该内圆筒(74)包括第一半部(78)和第二半部(80),在这两个半部上具有环形凸缘(76)。多个金属接口(82,84,86)连接到内圆筒(74)和外圆筒(72)。该多个金属接口(82,84,86)使内圆筒(74)的第一半部(78)和第二半部(80)结合,并且使内圆筒(74)和外圆筒(72)结合。 |
申请公布号 |
CN101191827A |
申请公布日期 |
2008.06.04 |
申请号 |
CN200710196074.7 |
申请日期 |
2007.11.30 |
申请人 |
通用电气公司 |
发明人 |
X·黄;P·S·汤普逊 |
分类号 |
G01R33/20(2006.01);G01R33/28(2006.01);G01R33/42(2006.01);G01R33/421(2006.01);G01R33/422(2006.01) |
主分类号 |
G01R33/20(2006.01) |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
张雪梅;王小衡 |
主权项 |
1.一种磁共振成像(MRI)系统(10),包括:用于产生磁场的至少一个磁体(54);至少一个梯度线圈(50),用于借助梯度场操纵由所述至少一个磁体(54)产生的磁场;和遮蔽该至少一个磁体(54)的真空容器(70),其中该真空容器(70)进一步包括:非金属材料制成的内圆筒(74),在该至少一个梯度线圈(50)运行期间在该非金属材料中涡流显著减少,其中该内圆筒(74)包括形成有环形凸缘(76)的第一半部(78)和第二半部(80);和非金属材料制成的外圆筒(72),在该至少一个梯度线圈(50)运行期间在该非金属材料中涡流显著减少。 |
地址 |
美国纽约州 |