具双频偏压之化学气相沉积处理室及利用前述处理室制造光罩之方法

摘要

本发明揭示一种整合光罩制程的方法及设备。在一实施例中，适于整合光罩制程的集结式机台(cluster tool)包含一真空传送室，具有至少一个硬罩幕沉积腔室及至少一个用来蚀刻铬的电浆腔室与该真空传送室连结。在另一实施例中，一种整合光罩制程之方法包含在一第一处理室中于一基材上沉积一硬罩幕，在该基材上沉积一光阻层，图案化该光阻层，在一第二处理室中透过形成在该图案化光阻层内的开口蚀刻该硬罩幕，以及在一第三处理室中透过形成在该硬罩幕内的开口蚀刻一铬层。