| 发明名称 | 制造溅射靶的方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种制造溅射靶的方法。该方法包括步骤：－提供具有某一热膨胀系数的靶支撑件；－提供具有某一热膨胀系数的靶材料。这种靶材料至少包括第一种和第二种化合物。这第一种化合物具有第一个热膨胀系数，而第二种化合物具有第二个热膨胀系数。这第二个热膨胀系数比第一个热膨胀系数大，且第二个热膨胀系数比靶支撑件的热膨胀系数大；－将靶材料结合到靶支撑件上。本发明进一步涉及所得到的溅射靶。 | ||
| 申请公布号 | CN1742111A | 申请公布日期 | 2006.03.01 |
| 申请号 | CN03825999.0 | 申请日期 | 2003.02.20 |
| 申请人 | 贝克特股份有限公司 | 发明人 | R·维米尔什;J·特林德罗 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01) | 主分类号 | C23C14/34(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 吴亦华 |
| 主权项 | 1.一种制造溅射靶的方法，所述方法包括步骤：-提供具有某一热膨胀系数的靶支撑件；-提供具有某一热膨胀系数的靶材料；靶材料中至少包括第一种和第二种化合物。这第一种化合物具有第一个热膨胀系数，而第二种化合物具有第二个热膨胀系数。这第二个热膨胀系数比第一个热膨胀系数大，并且第二个热膨胀系数比靶支撑件的热膨胀系数大；-将所述靶材料结合到所述的靶支撑件上。 | ||
| 地址 | 比利时茨维夫格姆 | ||