发明名称 |
有机抗反射涂料及其制备 |
摘要 |
本发明提供具有下列通式I、II或III的一种聚合物。该聚合物含有在亚微平版印刷方法所用的波长处具有强吸收的发色团,可用作采用248nm KrF、193nm ArF或157nm F<SUB>2</SUB>激光的亚微平版印刷方法中的抗反射涂料(ARC)。ARC解决了光从下层衍射和反射引起CD变化的问题,也消除了由于在晶片上的下层的光学性质及其上的光敏薄膜厚度的改变而引起的驻波和反射倒陷,因而可稳定地生成适用于半导体器件的超细图案。∴ (通式I)∴ (通式II)∴ (通式III) |
申请公布号 |
CN1215094C |
申请公布日期 |
2005.08.17 |
申请号 |
CN99126381.2 |
申请日期 |
1999.12.15 |
申请人 |
现代电子产业株式会社 |
发明人 |
郑旼镐;洪圣恩;白基镐 |
分类号 |
C08F20/14;C09D5/33;H01L23/29 |
主分类号 |
C08F20/14 |
代理机构 |
永新专利商标代理有限公司 |
代理人 |
甘玲 |
主权项 |
1、一种由下述通式I表示的聚合物:<img file="C991263810002C1.GIF" wi="862" he="550" />(通式I)其中,R和R<sup>I</sup>是相同或不同的,分别代表氢或-CH<sub>3</sub>;R<sub>1</sub>-R<sub>9</sub>是相同或不同的,分别代表氢、羟基、甲氧基羰基、羧基、羟甲基、直链或支链的C<sub>1</sub>-C<sub>6</sub>烷基或烷氧基烷基;x和y分别为0.01-0.99的摩尔分数;且m为1或2,n为2-4的整数。 |
地址 |
韩国京畿道 |