| 主权项 |
1.一种镀膜设备,包含:一镀膜腔体;一基板承载机构,其系位于该镀膜腔体中,并用以承载复数个基板;至少二镀膜源,其包含一第一镀膜源及一第二镀膜源,该第一镀膜源及该第二镀膜源系位于该镀膜腔体中、并与该基板承载机构相对而设;以及至少二遮板单元,其包含位于该镀膜腔体的一第一遮板单元及一第二遮板单元,该第一遮板单元及该第二遮板单元系分别与该第一镀膜源及该第二镀膜源相对而设、并具有一遮蔽状态及一未遮蔽状态,其中,当利用该第一镀膜源进行镀膜制程时,该第一遮板单元系处于该遮蔽状态,以介于该第一镀膜源及该基板承载机构之间,该第二遮板单元系处于该未遮蔽状态,而当利用该第二镀膜源进行镀膜制程时,该第二遮板单元系处于该遮蔽状态以介于该第二镀膜源及该基板承载机构之间,该第一遮板单元系处于该未遮蔽状态。2.如申请专利范围第1项所述之镀膜设备,其中各遮板单元分别包含:一支撑部;以及一遮板部,其系轴设于该支撑部,其中当该遮板单元处于该遮蔽状态时,该遮板部系遮蔽于各镀膜源与该基板承载机构之间,而当该遮板单元处于该未遮蔽状态时,该遮板部系未遮蔽于各镀膜源与该基板承载机构之间。3.如申请专利范围第2项所述之镀膜设备,其中当该遮板单元处于该遮蔽状态时,该遮板部系平行该基板,而当该遮板单元处于该未遮蔽状态时,该遮板部系平行于各镀膜源与该基板承载机构的连线方向。4.如申请专利范围第2项所述之镀膜设备,其中该遮板部具有一第一支点以及一第二支点,而该支撑部系包含:一延伸杆座,其系设置于该镀膜腔体中,且该第一支点系轴设于该延伸杆座上;一延伸杆,其系设置于该延伸杆座中,且该延伸杆之一端系设有一螺纹部;一旋转控制件,其系连设于该延伸杆之另一端,以控制该延伸杆之旋转;以及一螺纹座,其系套设于该螺纹部,且该第二支点系轴设于该螺纹座上,其中当该延伸杆转动时,该螺纹座系沿该延伸杆之轴向移动。5.如申请专利范围第4项所述之镀膜设备,其中该支撑部更包含:一穿通连接件,其系穿设于该镀膜腔体,且该延伸杆系穿过该穿通连接件,而该旋转控制件系露出于该镀膜腔体外。6.如申请专利范围第1项所述之镀膜设备,更包含:一离子辅助源,其系设置于该镀膜腔体中、并与该基板承载机构相对而设。7.一种镀膜设备用之遮板单元,其系应用于一镀膜设备中,该镀膜设备包含一镀膜腔体、一基板承载机构、一镀膜源以及该遮板单元,该基板承载机构、该镀膜源以及该遮板单元系设置于该镀膜腔体中,该遮板单元包含:一支撑部;以及一遮板部,其系轴设于该支撑部,其中当该遮板单元处于一遮蔽状态时,该遮板部系遮蔽于该镀膜源与该基板承载机构之间,而当该遮板单元处于一未遮蔽状态时,该遮板部系未遮蔽于该镀膜源与该基板承载机构之间。8.如申请专利范围第7项所述之镀膜设备用之遮板单元,其中,该基板承载机构系用以承载至少一基板,而当该遮板单元处于该遮蔽状态时,该遮板部系平行于该基板,当该遮板单元处于该未遮蔽状态时,该遮板部系平行于各镀膜源与该基板承载机构的连线方向。9.如申请专利范围第7项所述之镀膜设备用之遮板单元,其中该遮板部具有一第一支点以及一第二支点,而该支撑部系包含:一延伸杆座,其系设置于该镀膜腔体中,且该第一支点系轴设于该延伸杆座上;一延伸杆,其系设置于该延伸杆座中,且该延伸杆之一端系设有一螺纹部;一旋转控制件,其系连设于该延伸杆之另一端,以控制该延伸杆之旋转;以及一螺纹座,其系套设于该螺纹部,且该第二支点系轴设于该螺纹座上,其中当该延伸杆转动时,该螺纹座系沿该延伸杆之轴向移动。10.如申请专利范围第9项所述之镀膜设备用之遮板单元,其中该支撑部更包含:一穿通连接件,其系穿设于该镀膜腔体,且该延伸杆系穿过该穿通连接件,而该旋转控制件系露出于该镀膜腔体外。图式简单说明:图1为一示意图,显示习知之镀膜设备的示意图;图2为一示意图,显示依本创作较佳实施例之镀膜设备的示意图,其中第一遮板单元系处于遮蔽状态,第二遮板单元系处于未遮蔽状态;图3为一示意图,显示依本创作较佳实施例之镀膜设备的示意图,其中第一遮板单元系处于未遮蔽状态,第二遮板单元系处于遮蔽状态;图4为一示意图,显示依本创作较佳实施例之镀膜设备用之遮板单元的示意图,其系处于遮蔽状态;以及图5为一示意图,显示依本创作较佳实施例之镀膜设备用之遮板单元的示意图,其系处于未遮蔽状态。 |
