发明名称 | 处理器 | ||
摘要 | 一种处理器,一面设置有裸晶(die),在设置散热器于处理器设置裸晶之面时,不致损害到处理器,本创作主要包括有保护墙,此保护墙设置于裸晶外围,所以在将散热器设置于处理器设置裸晶之面时,保护墙可以避免散热器直接撞击到处理器,而便于设置散热器。 | ||
申请公布号 | TWM247882 | 申请公布日期 | 2004.10.21 |
申请号 | TW092216243 | 申请日期 | 2003.09.09 |
申请人 | 英业达股份有限公司 | 发明人 | 林书如 |
分类号 | G06F1/16 | 主分类号 | G06F1/16 |
代理机构 | 代理人 | 许世正 台北市信义区忠孝东路五段四一○号四楼 | |
主权项 | 1.一种中央处理器,一面设置有一裸晶(die),在设置一散热器于该中央处理器设置该裸晶之面时,不致损害到该中央处理器,该中央处理器的特征在于:其包括有一保护墙,该保护墙设置于该裸晶外围。2.如申请专利范围第1项所述中央处理器,其中该保护墙之高度与该裸晶之高度相当。3.如申请专利范围第1项所述中央处理器,其中该保护墙系为连续,且内部可容置该裸晶。4.如申请专利范围第1项所述中央处理器,其中该保护墙系为非连续,且包括有复数个保护件,且该保护件相间隔地设置于该裸晶外围。图式简单说明:第1图为将散热器直接设置于中央处理器上方之习知技术的示意图;第2图为习知中央处理器之保护墙的示意图;第3图为习知又一中央处理器之保护墙的示意图;第4图为习知另一中央处理器之保护墙的示意图;第5图为本创作之立体图;第6图为将散热器设置于中央处理器上方的剖面示意图;第7图为本创作之另一立体图;及第8图为将散热器设置于中央处理器上方的另一剖面示意图。 | ||
地址 | 台北市士林区后港街六十六号 |