| 发明名称 | 晶圆表面与工艺微粒与缺陷的监控方法 | ||
| 摘要 | 一种晶圆表面与工艺微粒与缺陷的监控方法，其中晶圆表面微粒与缺陷的监控方法是利用一量测机台以监测一晶圆实质有效表面上的微粒与缺陷。在监测之前，先在晶圆实质有效表面上形成一实质均匀的共形披覆层，并控制其厚度以使晶圆表面上可能有效的微粒与缺陷轮廓被适当放大。 | ||
| 申请公布号 | CN1442893A | 申请公布日期 | 2003.09.17 |
| 申请号 | CN02106865.8 | 申请日期 | 2002.03.06 |
| 申请人 | 旺宏电子股份有限公司 | 发明人 | 陈石晏;曾昭权 |
| 分类号 | H01L21/66 | 主分类号 | H01L21/66 |
| 代理机构 | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人 | 王学强 |
| 主权项 | 1.一种晶圆表面微粒与缺陷的监控方法，其利用一量测机台，监测一晶圆实质有效表面上的微粒与缺陷，其特征是，在监测之前，先在该晶圆实质有效表面上形成一实质均匀的共形披覆层，并控制其厚度使该表面上可能有效的微粒与缺陷轮廓被适当放大。 | ||
| 地址 | 台湾省新竹科学工业园区力行路16号 | ||