| 主权项 |
1.一种电浆处理装置,系使用电浆而对被处理体施予处理之装置,其构成特征在于包含有:一气密性处理室,系以气密性所形成;一载置台,系在前述处理空内,欲支撑前述被处理体而具有支撑面;一排气系统,系欲将前述处理室内排气,同时,欲设定前述处理室内为真空;一气体供给系统,系欲供给处理气体至前述处理室内;一电场产生系统,系将前述处理气体,介着放电而成为电浆之电场,产生在前述处理室内;以及前述处理室,系由除前述载置台的前述支撑之外,均由一体性连续之内壁面露出于前述处理室内的中央外壳组件所规制,并设定前述内壁面的电位,在实质上成为等效。2.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其前述内壁面之构成特征在于:前述内壁面于实质上,乃形成为无凹凸。3.如申请专利范围第1项之电浆处理装置,其前述排气系统的构成特征在于:前述排气系统,系具备将前述处理室内的气体,分别向上方及下方流通的前述上部及下部排气系统。4.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其前述上部排气系统的构成特征在于含有:一上部排气室,系配设在前述处理室之上侧;一喷射头,系配设在前述载置台之上方的前述气体供给系统;以及前述上部排气室及前述喷射头,系由前述中央外壳组件,及与前述中央外壳组件,组合成为分离可能之上部外壳组件,以气密性形成之。5.如申请专利范围第3项之电浆处理装置,其前述下部排气系统的构成特征在于含有:一下部排气室,系配设于前述处理室之下侧;一闸门,系欲在前述下部排气室,搬出入前述被处理体,而配设,以及由于前述载置台作上下移动,乃可使前述支撑面在前述下部排气室内之下侧位置处,与在前述处理室内之上侧位置处之间,移动可能。6.如申请专利范围第5项之电浆处理装置,其前述下部排气室的构成特征在于:前述下部排气室,系由前述中央外壳组件,以及将前述载置台予以包围,并且与前述中央外壳组件组合成为分离可能的下部外壳组件,以气密性形成之。图式简单说明:第一图系表示有关本发明实施例的电浆处理装置之电浆刻蚀的概略构成图;第二图系表示分解第一图所示之装置的概略截面图;第三图系表示沿着第二图的III-III线,而从处理室侧观看上部排气室侧的情形之概略截面图;第四图系表示沿着第二图的III-III线,而从处理室侧观看下部排气室侧的情形之概略截面图;第五图系表示欲将第一图所示之装置的外壳组件,予以分离之机构的概略透视图;第六图系使用第五图所示之机构,而表示将第一图所示之装置的外壳组件,予以分离之状态的概略透视图;第七图系表示有关本发明别实施例的电浆处理装置之电浆刻蚀装置之概略构成图;第八图系表示于第七图所示之装置上的控制处理压力之方法的流程图;第九图A、B系表示于第七图所示之装置的处理室内,其气体之流动状态;第十图系表示有关本发明又另一实施例的电浆处理装置之电浆刻蚀装置的概略构成图;第十一图系表示习知的电浆刻蚀装置之概略构成图。 |
