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发明名称 METAL CVD PROCESS WITH POST-DEPOSITION AND REMOVAL OF ALLOY GENERATED BY CVD TREATMENT
摘要
申请公布号 JPH0837165(A) 申请公布日期 1996.02.06
申请号 JP19950019272 申请日期 1995.02.07
申请人 APPLIED MATERIALS INC 发明人 FUJITA TOSHIAKI
分类号 H01L21/285;C23F4/00;H01L21/306;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/285 主分类号 H01L21/285
代理机构 代理人
主权项
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