| 发明名称 |
REACTIVE ION BEAM ETCHING METHOD |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS566441(A) |
申请公布日期 |
1981.01.23 |
| 申请号 |
JP19800045809 |
申请日期 |
1980.04.09 |
| 申请人 |
IBM |
发明人 |
JIEEMUZU MATSUKERU EDOUIN HAAP;HARORUDO RICHIYAADO KOOFUMAN |
| 分类号 |
H01L21/302;H01J27/14;H01J37/08;H01J37/305;H01L21/3065 |
主分类号 |
H01L21/302 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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