Negative photoresists of the polyimide type with 1,2-disulphones.

摘要

Die Erfindung betrifft Negativ-Fotoresists vom Polyimid-Typ, enthaltend in einem organischen Lösungsmittel im wesentlichen mindestens je a) ein in hochwärmebeständiges Polyimid-Polymer überführbares Polyamidsäure- oder Polyamidsäurederivat-Präpolymer, b) einen Fotoinitiator sowie gegebenenfalls weitere übliche Zusatzstoffe, die als Fotoinitiator eine Verbindung der Formel I R¹-SO2-SO2-R² I mit den für R¹ und R² angegebenen Bedeutungen enthalten.