| 发明名称 |
METHOD AND APPARATUS FOR SUBSTRATE HEATING IN AN AXIALLY SYMMETRIC EPITAXIAL DEPOSITION APPARATUS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
GB2181459(A) |
申请公布日期 |
1987.04.23 |
| 申请号 |
GB19860023977 |
申请日期 |
1986.10.06 |
| 申请人 |
* EPSILON LIMITED PARTNERSHIP |
发明人 |
MCDONALD * ROBINSON;RONALD D * BEHEE;WIEBE B * DEBOER;WAYNE L * JOHNSON |
| 分类号 |
C23C16/46;C30B25/10;H01L21/20;(IPC1-7):C23C16/46;F24C7/00 |
主分类号 |
C23C16/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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