| 发明名称 |
METHOD OF DEVELOPING PHOTORESIST |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS53138676(A) |
申请公布日期 |
1978.12.04 |
| 申请号 |
JP19780053313 |
申请日期 |
1978.05.06 |
| 申请人 |
ALLIED CHEM |
发明人 |
JIYON II BANDA MEI;UIRIAMU AARU SHIEBEI;ROORANDO DABURIYUU ANDAASUN |
| 分类号 |
H01L21/30;G03F7/30;G03F7/32;H01L21/027 |
主分类号 |
H01L21/30 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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