基板曝光装置及基板曝光方法

摘要

本发明提供基板曝光装置与基板曝光方法。不需要推动基板的端面使之变形而给予负荷的方式的预定位机构，适用于大型且薄的基板的基板且可进行高精度曝光。基板曝光装置包括：曝光用光学系统(22)；曝光台(16)；晒相框(19)，其经由透光板支撑掩模；第一摄影装置(27)，其对调整标记M1、M2摄影；第二摄影装置(23)，其透过上述透光板，对上述基板的至少二边摄影；该第二摄影装置用的照明装置；控制装置(25)，其分析由上述第二摄影装置拍摄的图像，控制上述曝光台以对上述基板预定位，使得上述基板与上述掩模的各调整标记(24)进入上述第一摄影装置的视野内，并且分析由上述第一摄影装置所拍摄的图像，控制上述曝光台以调整上述基板的调整标记与上述掩模的调整标记。

主权项

1.一种基板曝光装置，该基板曝光装置利用基板搬运装置将基板搬运至曝光台，在上述曝光台上进行基板的预定位及调整，经由曝光用光学系统进行曝光，其特征在于，上述基板曝光装置包括：曝光台，其支撑被搬运来的上述基板，使上述基板沿X轴、Y轴、θ轴及Z轴的各方向移动；晒相框，其经由透光板而支撑掩模，使得该掩模与被该曝光台所支撑的上述基板相面对；第一摄影装置，其为了使上述基板相对于上述掩模进行调整移动，对上述基板和上述掩模的各调整标记进行摄影；第二摄影装置，其设置成可自由移动至可通过上述透光板对上述基板的至少二边进行摄影的摄影位置以及从上述曝光用光学系统的光路退避开的退避位置；照明装置，其设置成可自由移动到为了得到该第二摄影装置可进行摄影的对比度而对上述基板的至少二边点亮照明光的点亮位置、以及从上述曝光用光学系统的光路退避开的退避位置；以及控制装置，其分析经由该照明装置及上述第二摄影装置而拍摄的图像，控制上述曝光台以对上述基板进行预定位，使得上述基板的各调整标记进入上述第一摄影装置的视野内，并且分析由上述第一摄影装置所拍摄的图像，控制上述曝光台以调整上述基板的调整标记与上述掩模的调整标记。