| 主权项 |
1﹒一种制备下式所示之方法式中R系选自低级烷 基 ,低级烷氧烷基,卤代低级烷基,苯基及被取代 的苯基,R1,系选自氢,低级烷基,低级烷氧 基及卤素,且可代表环上之一至四个取代基,该 方法包含下列之步骤: (a)于0℃至40℃时,在R1溶于质子惰性 溶剂中所成的溶液中加入O=C=N─P(OR ),溶于质子惰性溶剂中所成的溶液,(b)于 0至40℃中混合该反应混合物,直到反应完 全,(c)自反应混合物中分离固体产物。 2﹒如请求专利部份第1项所述之方法,其中用来溶 解反应物之质子惰性溶剂系选自卤代苯,被低级 烷基取代之苯,苯,被取代之低级烷类,二低级 烷基醚,二恶烷及二低级烷氧基乙烷。 3﹒如请求专利部份第1项所述之方法,其中该等反 应物之混合时间约为10至120分钟。 4﹒如请求专利部份第12项所述之方法,其中该产 物系以过滤之方法自反应混合物中分离出。 5﹒如请求专利部份第1项所述之方法,其中该异氰 酸盐溶液中每份异氰酸盐至多含有0﹒5份溶剂 ,而二胺溶液是1/2饱和至饱和。 |
