Device for precise relative adjustment of a mask and a semiconductor wafer in a lithography apparatus and method for its use.

摘要

Anordnung zur genauen gegenseitigen Ausrichtung einer Maske (2) und einer Halbleiterscheibe (1) in einem Lithographiegerät, bei der die Maske (2) mittels erster, senkrecht zur Maskenebene angeordneter Stellstifte (29 bis 31) in einem Halterungsteil (19a) gelagert ist und mittels zweiter, parallel zur Maskenebene angeordneter Stellstifte (40 bis 42) zu Ausrichtbewegungen veranlaßt wird. Dabei sind die ersten Stellstifte (29 bis 31) im Halterungsteil (19a) in Längsrichtung verschiebbar gelagert und mit steuerbaren Antriebsvorrichtungen (32) gekoppelt, um die Maske (2) senkrecht zu einem belichtenden Korpuskularstrahl (5) auszurichten. Zusätzlich kann auch eine entsprechende Ausrichtung der Halbleiterscheibe (1) vorgesehen sein.