摘要 |
resumo patente de invenção: "método e sistema de mensuração de superfície". a presente invenção refere-se a um método de mensuração de superfície que inclui inspecionar uma pluralidade de amostras de uma primeira superfície de peça de trabalho irregular em duas dimensões, determinar, com base nas inspeções das amostras, um número total de picos de superfície em cada uma dentre a pluralidade de amostras, e derivar um limite de controle a partir de uma variação estatística do número total de picos de superfície em cada uma das amostras. o limite de controle especifica uma condição fora de tolerância para o número total de picos de superfície em uma segunda superfície de peça de trabalho irregular. o método inclui, adicionalmente, inspecionar uma porção da segunda superfície de peça de trabalho irregular em duas dimensões, determinar, com base na inspeção da porção da segunda superfície de peça de trabalho irregular, um número total de picos de superfície na porção, e comparar o número total de picos de superfície na porção com o limite de controle para determinar se a segunda superfície de peça de trabalho irregular está na condição fora de tolerância. |