衬底处理设备

摘要

本发明涉及一种衬底处理设备，其包括：腔室，腔室允许衬底在腔室的一侧上进和出，且在腔室中具有第一空间；内部腔室，布置在腔室内部的第一空间中，且在内部腔室中具有第二空间；衬底支撑件，布置在内部腔室的内部，所述衬底支撑件用于支撑衬底；以及气体喷射器，用于在衬底支撑件上喷雾气体，其中内部腔室包括：固定在腔室的内部的上部部分上的第一本体；布置在第一本体下方的第二本体，所述第二本体能够垂直地移动且在第二本体的底部表面的中心部分中具有排气孔；以及排气本体，连接到排气孔且在排气本体的内部具有排气路径。

主权项

一种衬底处理设备，其特征在于包括：腔室，具有一侧，通过所述侧装载和卸载衬底，所述腔室中具有第一空间；内部腔室，安置于所述腔室内的所述第一空间中，所述内部腔室中具有第二空间；衬底支撑件，安置于所述内部腔室中以支撑所述衬底；以及气体喷射器，安置于所述衬底支撑件的上方以将气体喷射到所述衬底支撑件上，其中所述内部腔室包括：第一本体，固定到所述腔室内的上部部分；第二本体，安置于所述第一本体的下部部分上且可垂直地移动，所述第二本体具有在其底部表面的中心部分中的排气孔；以及排气本体，连接到所述排气孔且所述排气本体中界定排气路径。