| 发明名称 |
ＣＭＰ研磨ヘッド用の基板歳差運動機構 |
| 摘要 |
キャリアヘッド用の基板歳差運動装置が提供される。装置は、基板研磨中の基板歳差運動である、キャリアヘッドに対する基板の回転移動を可能にする。キャリアヘッドと保持リングアセンブリを分離して、互いに独立して移動することによって、ＣＭＰプロセス中の基板歳差運動を促進することができる。【選択図】図２ |
| 申请公布号 |
JP2016515303(A) |
申请公布日期 |
2016.05.26 |
| 申请号 |
JP20160500364 |
申请日期 |
2014.02.24 |
| 申请人 |
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡＰＰＬＩＥＤ ＭＡＴＥＲＩＡＬＳ，ＩＮＣＯＲＰＯＲＡＴＥＤ |
发明人 |
チェン， チー ハン;ダンダヴェート， ゴータム シャシャンク;グルサミー， ジェイ;スウ， サミュエル チュ−チャン |
| 分类号 |
H01L21/304;B24B37/30;B24B37/32;B24B41/06 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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