图案化导电结构及其制造方法

摘要

明揭露一种图案化导电结构的制造方法，包括在一基底的一表面上形成一可溶性层，其中可溶性层具有一开口，露出基底的表面的一粗糙部份。在可溶性层上形成一第一导电层，其中第一导电层延伸至开口内的粗糙部份上。去除可溶性层及可溶性层上的第一导电层，其中第一导电层对应于粗糙部份的一部份保留于基底上。本发明亦揭露由上述制造方法所形成的一种图案化导电结构。

主权项

一种图案化导电结构的制造方法，包括：在一基底的一表面上形成一可溶性层，其中该可溶性层具有一开口，露出该基底的该表面的一粗糙部份；在该可溶性层上形成一第一导电层，其中该第一导电层延伸至该开口内的该粗糙部份上；以及去除该可溶性层及该可溶性层上的该第一导电层，其中该第一导电层对应于该粗糙部份的一部份保留于该基底上。