发明名称 一种连续式等离子真空镀膜装置
摘要 本实用新型公开了一种连续式等离子真空镀膜装置,包括镀膜室和真空管道,所述镀膜室内设有输送带,在镀膜室顶面上沿输送带运动方向设置有若干离子罩,在输送带下方设有若干电弧溅射源,所述镀膜室两侧分别设有第一隔离腔和第二隔离腔,在第一隔离腔与镀膜室连接处和第二隔离腔与镀膜室连接处分别设置有第一真空隔离阀和第二真空隔离阀,在第一隔离腔上方设有第一抽气口,在第一隔离腔上相对第一真空隔离阀一侧设有第一隔离腔门,在第二隔离腔上方设有第二抽气口,本装置通过将第一隔离腔、镀膜室和第二隔离腔依次连接并形成三个独立的真空腔体,保证在进行电离子镀膜时镀膜室内的密封性及真空程度。
申请公布号 CN205115597U 申请公布日期 2016.03.30
申请号 CN201520848334.4 申请日期 2015.10.30
申请人 东莞市中创塑胶制品有限公司 发明人 柯文祥
分类号 C23C16/513(2006.01)I 主分类号 C23C16/513(2006.01)I
代理机构 深圳市科吉华烽知识产权事务所(普通合伙) 44248 代理人 朱晓光
主权项 一种连续式等离子真空镀膜装置,包括镀膜室和真空管道,其特征在于,所述镀膜室内设有输送带,在镀膜室顶面上沿输送带运动方向设置有若干离子罩,在输送带下方设有若干电弧溅射源,所述镀膜室两侧分别设有第一隔离腔和第二隔离腔,在第一隔离腔与镀膜室连接处和第二隔离腔与镀膜室连接处分别设置有第一真空隔离阀和第二真空隔离阀,在第一隔离腔上方设有第一抽气口,在第一隔离腔上相对第一真空隔离阀一侧设有第一隔离腔门,在第二隔离腔上方设有第二抽气口,在第二隔离腔上相对第二真空隔离阀一侧设有第二隔离腔门,在第一隔离腔和第二隔离腔内均设有磁控溅射源;在镀膜室下方设有真空管道,所述真空管道主体呈“Y”形,包括第一抽气管、第二抽气管和聚合管道,所述第一抽气管和第二抽气管上端均设置有上端接口,所述上端接口固定在镀膜室底面上使得第一抽气管和第二抽气管与镀膜室内部相连通,第一抽气管和第二抽气管下端弯折并与聚合管道上端密封对接,在聚合管道下端设置有下端接口。
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