HIGH DENSITY HELICON PLASMA SOURCE FOR WIDE RIBBON ION BEAM GENERATION

摘要

하나 또는 그 이상의 헬리콘 플라즈마 소스들을 사용하여 고밀도의 폭이 넓은 리본 이온 빔을 발생시킬 수 있는 이온 소스가 개시되어 있다. 헬리콘 플라즈마 소스(들)에 부가하여, 이온 소스는 또한 확산 챔버를 포함한다. 확산 챔버는 헬리콘 플라즈마 소스의 유전체 원통과 동일한 축을 따라 방위가 정해진 추출 개구를 가진다. 하나의 실시예에서는, 확산 챔버의 대향 단부들 상에 위치된 듀얼 헬리콘 플라즈마 소스들이 더욱 균일한 추출 이온 빔을 생성하기 위해 이용된다. 또 다른 실시예에서는, 추출 이온 빔의 균일성을 추가로 향상시키기 위해 멀티커스프 자기장(multicusp magnetic field)이 이용된다.