| 发明名称 |
用于将制程气体混合物供给至ＣＶＤ或ＰＶＤ涂布装置之装置及方法 |
| 摘要 |
明首先系有关一种供气装置，包括：进入通道(22)，用于将分别由一气体源(21)提供之单一气流送入第一混合室(12)，其中在该第一混合室(12)中，特定言之藉由一或数个第一气体致偏元件(13)使该等单一气流发生单一偏转或多重偏转并将该等单一气流混合；溢流障壁(14)，由所有单一气流组成之第一气流越过该溢流障壁而由该第一混合室(12)进入第二混合室(15)，在该第二混合室中，特定言之藉由第二气体致偏元件(16)使该第一气流发生单一偏转或多重偏转；及排气通道(8)，用于将该气流由该第二混合室(15)排出至CVD或PVD涂布装置(1)之进气机构(5)。提出以下创新方案：该等单一气流在该等气体源(21)与该进气机构(5)间具有相同之有效径长。本发明另亦有关一种将制程气体供给至CVD或PVD涂布装置之进气机构(9)的方法，其特征在于，该等气体在该气体源(21)与该进气机构(5)间之路径上的有效停留时间至多相差十毫秒。
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| 申请公布号 |
TW201602398 |
申请公布日期 |
2016.01.16 |
| 申请号 |
TW104114708 |
申请日期 |
2015.05.08 |
| 申请人 |
爱思强欧洲公司 |
发明人 |
戈琵 巴斯卡尔 帕加达拉;皮内罗 爱德华多 奥斯曼 舒凡;葛斯多夫 马库斯;贾科柏 马库斯;诺依曼 斯特芬 |
| 分类号 |
C23C16/455(2006.01);C23C14/22(2006.01);B01F3/02(2006.01);B01F5/06(2006.01);B05B1/34(2006.01) |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
赖经臣;宿希成 |
| 主权项 |
一种供气装置，包括：呈星型围绕中心布置且分别连接一气体源(21)之进入通道(22)，用于将分别由一气体源(21)提供之单一气流送入呈环柱形围绕该中心布置之第一混合室(12)，其中在该第一混合室(12)中，特定言之藉由一或数个第一气体致偏元件(13)使该等单一气流发生单一偏转或多重偏转并将该等单一气流混合；溢流障壁(14)，由所有单一气流组成之第一气流在偏转180°之情况下越过该溢流障壁而由该第一混合室(12)进入设于该第一混合室(12)内侧之第二混合室(15)，在该第二混合室中，特定言之藉由第二气体致偏元件(16)使该第一气流发生单一偏转或多重偏转；及设于该中心之排气通道(8)，用于将该气流由该第二混合室(15)排出至CVD或PVD涂布装置(1)之进气机构(5)，其特征在于，由此二混合室(12、15)及该等气体源(21)构成之该供气装置沿竖向设于处理室(2)上方。
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| 地址 |
德国 |
