发明名称 |
确定扫描离子注入机的剂量均匀性的方法 |
摘要 |
确定扫描离子注入机的剂量均匀性。在一次完整的扫描开始和/或结束时,在整个衬底区域上测量基本射束电流。在测量不会受到正被注入的衬底的除气作用影响之时,测量这一基本射束电流,然后计算所述扫描的基本剂量分布图。在所述扫描本身的过程中,检测射束不稳定性事件,并测量检测到的不稳定性事件在扫描中的大小和位置。确定出所计算的基本剂量图中的相应偏差,并从先前计算的基本剂量分布图中减去相应偏差,以提供一个校正分布图。通过以这种方式确定出减少的总剂量均匀性,可以在射束不稳定性事件的测量中,用较差的精度获得良好的总体精度。 |
申请公布号 |
CN100585787C |
申请公布日期 |
2010.01.27 |
申请号 |
CN200580024947.5 |
申请日期 |
2005.07.22 |
申请人 |
应用材料有限公司 |
发明人 |
D·W·瓦格纳;B·加洛;P·T·金德斯利;D·E·阿贝勒;J·Y·西蒙斯 |
分类号 |
H01J37/317(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/317(2006.01)I |
代理机构 |
北京纪凯知识产权代理有限公司 |
代理人 |
赵蓉民;薛 峰 |
主权项 |
1.一种确定扫描离子注入机的剂量均匀性的方法,该扫描离子注入机在离子射束和待注入的衬底之间执行至少一次相对扫描,所述方法包括以下步骤在所述扫描之前或之后至少之一时测量基本射束电流,以便不受来自正被注入的衬底的除气作用的影响,根据测量到的基本射束电流为所述扫描计算所述衬底上的基本剂量分布图,检测射束不稳定性事件,并对检测到的射束不稳定性事件在所述扫描中在所述衬底上的大小和位置进行测量,且根据所述测量到的大小和扫描位置确定所述计算得到的基本剂量分布图中的相应偏差,和从所述基本剂量分布图中减去所述偏差,以提供校正剂量分布图。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |