| 发明名称 | 化学机械研磨装置及方法 | ||
| 摘要 | |||
| 申请公布号 | TWI505345 | 申请公布日期 | 2015.10.21 |
| 申请号 | TW100121446 | 申请日期 | 2011.06.20 |
| 申请人 | 南亚科技股份有限公司 | 发明人 | 刘立中;陈逸男;刘献文 |
| 分类号 | H01L21/304;B24B37/20 | 主分类号 | H01L21/304 |
| 代理机构 | 代理人 | 吴丰任 新北市永和区福和路389号6楼之3;戴俊彦 新北市永和区福和路389号6楼之3 | |
| 主权项 | 一种化学机械研磨装置，包含：一壳体；一平台，设置于该壳体中，其中该平台系由一中央圆形部分以及一周围环形部分所组成，其中该周围环形部分环绕该中央圆形部分，且该周围环形部分与该中央圆形部分之间具有一间隙；一研磨头，用以固定并旋转一晶圆；提供有一第一浆料之一第一研磨垫，设置于该中央圆形部分上；以及提供有一第二浆料之一第二研磨垫，设置于该周围环形部分上，其中该第一浆料与该第二浆料系以不同流速提供。 | ||
| 地址 | 桃园市龟山区华亚科技园区复兴三路669号 | ||