扫瞄系统、离子植入机及使用离子束处理基底的方法;SCAN SYSTEM,ION IMPLANTER, AND METHOD TO PROCESS SUBSTRATE USING ION BEAM

摘要

一种用于用离子束处理基底的扫描系统可包含：扫描器以接收具有带状束的形状的所述离子束，所述带状束具有沿着第一轴的束宽度及沿着垂直于所述第一轴的第二轴的束高度，所述束宽度比所述束高度大至少三倍；以及扫描电力供应器以将信号发送至所述扫描器以产生使所述带状束沿着所述第二轴偏斜的偏斜场。; and a scan power supply to send signals to the scanner to generate a deflecting field that deflects the ribbon beam along the second axis.