发明名称 | 苛刻环境的光学元件保护 | ||
摘要 | 用于保护光学元件,特别是反射性光学元件免于在苛刻环境(例如,EUV光源的真空室内的环境)中使它们光学性质劣化的光学元件保护系统。系统包括在各层中使用材料的组合,其中对材料进行选择并对层进行配置和布置,以延长光学元件的寿命而不损害其光学性质。 | ||
申请公布号 | CN104838729A | 申请公布日期 | 2015.08.12 |
申请号 | CN201380051709.8 | 申请日期 | 2013.09.25 |
申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | A·I·叶尔绍夫;N·R·鲍尔林;B·拉 方丹;S·德 地 |
分类号 | H05G2/00(2006.01)I | 主分类号 | H05G2/00(2006.01)I |
代理机构 | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人 | 王茂华;郑振 |
主权项 | 一种用于反射远紫外辐射的光学元件,所述光学元件包括:至少两种介电材料的交替层的堆叠;以及布置在所述堆叠的最外层上的保护层,其中,所述保护层包含ZrN。 | ||
地址 | 荷兰维德霍温 |