发明名称 苛刻环境的光学元件保护
摘要 用于保护光学元件,特别是反射性光学元件免于在苛刻环境(例如,EUV光源的真空室内的环境)中使它们光学性质劣化的光学元件保护系统。系统包括在各层中使用材料的组合,其中对材料进行选择并对层进行配置和布置,以延长光学元件的寿命而不损害其光学性质。
申请公布号 CN104838729A 申请公布日期 2015.08.12
申请号 CN201380051709.8 申请日期 2013.09.25
申请人 ASML荷兰有限公司 发明人 A·I·叶尔绍夫;N·R·鲍尔林;B·拉 方丹;S·德 地
分类号 H05G2/00(2006.01)I 主分类号 H05G2/00(2006.01)I
代理机构 北京市金杜律师事务所 11256 代理人 王茂华;郑振
主权项 一种用于反射远紫外辐射的光学元件,所述光学元件包括:至少两种介电材料的交替层的堆叠;以及布置在所述堆叠的最外层上的保护层,其中,所述保护层包含ZrN。
地址 荷兰维德霍温