| 发明名称 | 原子层沉积 | ||
| 摘要 | 一种通过使用原子层沉积过程将材料沉积到基底上的方法，其中所述沉积过程包括第一沉积步骤、第一沉积步骤后的第二沉积步骤和在所述第一沉积步骤和第二沉积步骤之间的至少一分钟的延迟。每个沉积步骤包括多个沉积循环。延迟通过在选择的一个沉积循环结束处延迟净化气体被供应到容纳基底的处理腔室的时间段而被引入到沉积过程中。 | ||
| 申请公布号 | CN104379807A | 申请公布日期 | 2015.02.25 |
| 申请号 | CN201380029364.6 | 申请日期 | 2013.04.03 |
| 申请人 | 戴森技术有限公司 | 发明人 | G.阿马拉藤加;Y.乔伊;S.希瓦雷迪;N.布朗;C.科利斯 |
| 分类号 | C23C16/40(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/40(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 陈钘 |
| 主权项 | 一种通过使用原子层沉积过程将材料沉积到基底上的方法，其中所述沉积过程包括第一沉积步骤、第一沉积步骤后的第二沉积步骤和在所述第一沉积步骤和第二沉积步骤之间的延迟。 | ||
| 地址 | 英国威尔特郡 | ||