发明名称 |
下层膜材料及图案形成方法;UNDERLAYER FILM-FORMING COMPOSITION AND PATTERN FORMING PROCESS |
摘要 |
本发明提供一种下层膜材料,系于微影使用之光阻下层膜材料,其特征为含有具选自于经取代或非经取代之苯酚酞、酚红、甲酚酞、甲酚红、百里酚酞中之1种以上之重复单元的酚醛清漆树脂。本发明之光阻下层膜材料可被硷性水溶液剥离。具有选自于苯酚酞、酚红、甲酚酞、甲酚红、百里酚酞中之1种以上之重复单元的酚醛清漆树脂,于硷性水溶液中水解而产生羧基或磺基,并且变成可溶于硷性水溶液。藉此,能不对于已植入离子之Si基板或SiO2基板造成损伤而剥离。 |
申请公布号 |
TW201502709 |
申请公布日期 |
2015.01.16 |
申请号 |
TW103119935 |
申请日期 |
2014.06.09 |
申请人 |
信越化学工业股份有限公司 |
发明人 |
畠山润;郡大佑;荻原勤 |
分类号 |
G03F7/11(2006.01);C08G61/12(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/11(2006.01) |
代理机构 |
|
代理人 |
周良谋周良吉 |
主权项 |
|
地址 |
日本 |