| 发明名称 | 聚合物、含有该聚合物的组合物、和单层涂布型水平取向膜 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种聚合物，其特征在于，含有下述式[1a]、[1b]和[1c]表示的重复单元。通过上述聚合物，能够以简单的工艺制作单层涂布型水平取向膜。[式中，X和Y各自独立地为下述式[2]或[3]表示的基团，M<sup>1</sup>和M<sup>2</sup>分别为下述式[4]和[5]表示的基团，A为碳数2～15的直链或支链状烷基，m、n和p分别为满足0<m<1、0<n<1、0≤p≤0.5、且m+n+p≤1的数，q和r各自独立地为2～9的整数。]<img file="DDA0000566945920000011.GIF" wi="1167" he="1440" /> | ||
| 申请公布号 | CN104159938A | 申请公布日期 | 2014.11.19 |
| 申请号 | CN201380013090.1 | 申请日期 | 2013.02.26 |
| 申请人 | 日产化学工业株式会社 | 发明人 | 丹尼尔·安东尼奥·樱叶汀;汤川升志郎 |
| 分类号 | C08F224/00(2006.01)I;C07D307/58(2006.01)I;C08F220/30(2006.01)I;C08L33/14(2006.01)I;C08L37/00(2006.01)I;G02B5/30(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I | 主分类号 | C08F224/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 吴宗颐 |
| 主权项 | 聚合物，其特征在于，含有下述式[1a]、[1b]和[1c]表示的重复单元，<img file="FDA0000566945890000011.GIF" wi="1155" he="484" />式中，X和Y各自独立地为下述式[2]或[3]表示的基团，<img file="FDA0000566945890000012.GIF" wi="1145" he="552" />式[3]中，R<sup>1</sup>为氢原子或甲基，虚线为键，M<sup>1</sup>为下述式[4]表示的基团，M<sup>2</sup>为下述式[5]表示的基团，<img file="FDA0000566945890000013.GIF" wi="1302" he="438" />式[4]和[5]中，s1、s2、s3和s4各自独立地为1或2，G<sup>1</sup>和G<sup>2</sup>各自独立地为单键、‑COO‑或‑OCO‑，R<sup>2</sup>和R<sup>3</sup>各自独立地为氢原子、卤原子、氰基、碳数1～10的烷基、或碳数1～10的烷氧基，虚线为键，A为碳数2～15的直链或支链状烷基，m、n和p分别为满足0<m<1、0<n<1、0≤p≤0.5、且m+n+p≤1的数，q和r各自独立地为2～9的整数。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||