| 发明名称 | 可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，包括如下步骤：步骤1、提供紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20)；步骤2、在紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20)之间设置数块遮光板(30)；步骤3、转动遮光板(30)，调整紫外光灯(10)发出的紫外光照射到基板(20)上的面积，从而控制单位时间内紫外光照射到基板(20)上的能量；步骤4、紫外光灯(10)发出紫外光清洗基板(20)。通过该方法可以灵活调节用于基板清洗的紫外光能量，达到既能有效去除黏附于基板表面的有机物，又能避免设于基板上的电路图形被静电击伤的目的，从而提高产品品质及良率。 | ||
| 申请公布号 | CN103962346A | 申请公布日期 | 2014.08.06 |
| 申请号 | CN201410216997.4 | 申请日期 | 2014.05.21 |
| 申请人 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 发明人 | 姚江波 |
| 分类号 | B08B7/00(2006.01)I;G02F1/13(2006.01)I | 主分类号 | B08B7/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 深圳市德力知识产权代理事务所 44265 | 代理人 | 林才桂 |
| 主权项 | 一种可调整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20)；步骤2、在紫外光灯(10)与待紫外光清洗的基板(20)之间设置数块遮光板(30)；步骤3、转动遮光板(30)，调整紫外光灯(10)发出的紫外光照射到基板(20)上的面积，从而控制单位时间内紫外光照射到基板(20)上的能量；步骤4、紫外光灯(10)发出紫外光清洗基板(20)。 | ||
| 地址 | 518132 广东省深圳市光明新区塘明大道9—2号 | ||